蔡司光學外高橋項目

建設時（shí）間: 建設地點:上海外高（gāo）橋

本項目位於位於上（shàng）海（hǎi）市外高橋保（bǎo）稅區，總占（zhàn）地麵積約21118m2。總建築（zhù）麵積16398m2，主要單體包括一座（zuò）綜合生產樓、兩座（zuò）門衛、一座消防泵房及水池。