上海日立電器有限公(gōng)司科技大樓建設(shè)項目(mù)可行性研究報(bào)告

建設時間:2003年 建設地點(diǎn):上海金橋

'該項目位於金橋出(chū)口(kǒu)加(jiā)工區26#地塊內,新(xīn)建大樓占地總麵積1950平方。主(zhǔ)要設置試驗開發中心(技術人員辦公和試驗加工設備用房)、信息管理中(zhōng)心及相關管理部門辦公樓。總投資約5000萬。

獲(huò)獎信息:

獲獎(jiǎng)項目名(míng)稱:上海日立電器有限公司科(kē)技大樓建設項目可行性研究報告

發獎部門:中國輕工業勘察設計協會

獎項等級:工程谘詢三等獎(jiǎng)

獲獎年份:2004年

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