森蘭國際藝術中心

建設(shè)時間: 建設地點(diǎn):
項目位於上海外高橋新市鎮東溝楔(xiē)形綠地D06-05地塊,建設(shè)內容為美術館、藝術酒店、藝術商貿區、多功能活動中心以及(jí)兩層地下室,為外高橋地區一座集(jí)酒店(diàn)、藝術中心、商場等功能的(de)大型綜合體。項目總麵積(jī)約9萬平方米,其中地下約4.5萬平(píng)方米,地上約4.5萬平方米,容積率1.43,建築密度35%,綠地率35%,機動車停車310輛,建築高(gāo)度23.8m。

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