上海日立電器有限公司科技大樓建設項目可行性研究報告

Construction time:2003年(nián) locations:上海金橋

'該項目位於金橋出口加工區26#地塊內,新建大樓占地總麵積1950平方(fāng)。主要設置試驗開發(fā)中心(xīn)(技術人員辦公和試驗加工設備用房(fáng))、信(xìn)息(xī)管理中心及相關(guān)管理部門辦公樓。總投資約5000萬。

獲獎信息:

獲獎項目名稱(chēng):上海日立電器有限公司科技大樓建設項目可行(háng)性(xìng)研究報告

發獎部門:中國輕(qīng)工業勘察設計協會

獎項等(děng)級:工(gōng)程谘詢三(sān)等獎

獲獎年(nián)份:2004年

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